鏂拌仦璩囪▕
  • 濺射靶材
  • 2017/2/10 閱讀次數:[3401]
  •   磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,2013年的蒸發鍍膜方式,其很多方面的優勢相當明顯。
      作為一項已經發展的較為成熟的技術,磁控濺射已經被應用于許多領域。
    濺射技術
      濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。
版權所有:法柯特科技(江蘇)有限公司 蘇備號:0000號
地 址:江蘇省鹽城市經濟技術開發區高新產業園內 電話:0515-88599998 傳真:0515-88599998 備案號:蘇ICP備14053777號
免責聲明:本網站有部分內容來自互聯網,如無意中涉及第三方知識產權,請來電或致函告知,本網站會及時回復或修改。
内蒙古11选5每天几点开始 福建快三开奖走势图今 上海期货配资公司 江西快3预测计划 广西快三遗漏一定牛 加拿大卑诗快乐8开奖结果网 赌场公开赌博 腾讯分分彩人工全能 天津快乐十分秘籍 江苏11选5怎么选 股票配资被骗18万 理财产品本金亏损案例 上海快3走势图表走势图 时时彩最快开奖软件 股票指数产品 期货配资怎么挣钱 彩乐乐江苏快三